◆精密積算光量控制

全流程監控控制系統，曝光過程參數即時顯示，為第四代積算光量控制系統HMI-PLC，採用人機介面測量。曝光量誤差＜±1%，控制精度達儀器等級。可同步顯示光能量（mj/cm²）、光強度（mW/cm²）、時間（sec），並可調整曝光能量參數。

◆高速真空吸氣系統

配備無塵、無油、靜音型真空抽氣幫浦，及高張力抗紫外線真空膠板，真空速度均勻快速，版與底片密接快速平整，適用於高精度線條和高密度網線之直接或間接之網版曝光，以及無塵室環境。

◆高功率紫外線燈源

3000W瞬時啟動型紫外線

波長範圍360nm~410nm